Placa de filtro profundo da série SCP com auxiliar de filtração de alta qualidade – Ampla faixa de retenção (0,2–20 µm)

Mecanismo e alcance de filtragem

• Filtragem de modo triploA captura na superfície, o aprisionamento em profundidade e a adsorção atuam em conjunto para maximizar a remoção de impurezas.
  

• Faixa de retenção: suporta filtragem de20 µm até 0,2 µm, abrangendo níveis de abrasão grossa, fina, polimento e redução microbiana.
  

Estabilidade estrutural e qualidade da mídia

• Meios homogêneos e consistentes: garante um desempenho previsível em todos os aspectos.
  

• Alta resistência à umidadeEstrutura estável mesmo sob fluxo de fluido, pressão ou saturação.
  

• Arquitetura de poros otimizadaTamanhos e distribuição de poros ajustados para uma retenção confiável com mínima passagem de fluido.
  

Retenção de sujeira e economia

• Alta capacidade de carga de sujeiraGraças à sua estrutura profunda e capacidade de adsorção, permite uma vida útil mais longa antes de entupir.
  

• Desempenho com boa relação custo-benefícioMenos trocas de filtro, menor tempo de inatividade para manutenção.

Garantia de Qualidade e Fabricação

• Estritocontrole de qualidadesobre matérias-primas e materiais auxiliares.
  

• Monitoramento em processoPara garantir a consistência e reduzir os defeitos.
  

Aplicações típicas

• Polimento e clarificação final em processamento químico

• Filtração fina para líquidos especiais

• Redução bacteriana e controle microbiano

• Tarefas de filtração para bebidas, produtos farmacêuticos, cosméticos e biotecnologia

• Qualquer sistema que exija filtragem em múltiplos níveis, desde partículas grossas até ultrafinas.